تجزیه و تحلیل ساختاری لایه‌های کربنی که در درصدهای جرم کل مختلف در یک سیستم CVD رشته داغ نهشته شده‌اند.

رسوب لایه های کربنی غنی از فاز الماس موضوع تحقیقات زیادی بوده است. با این حال، ویژگی‌های لایه‌های کربنی رسوب‌شده، اطلاعات به‌روز در مورد ساختار را در همه مقیاس‌ها نشان نمی‌دهند. این کار لایه های کربنی را بر روی بسترهای سیلیکونی رسوب داد. برای رسوب لایه‌های کربنی با روش رسوب بخار شیمیایی فیلامنت داغ، دبی جرمی کل 200، 300 و 400 sccm انتخاب شدند. غلظت CH4 در تمام آزمایش ها در 1.5٪ ثابت نگه داشته شد. فیلم‌های کربنی که عمدتاً در فاز الماسی رسوب می‌کنند، ساختارهای متفاوتی را در نرخ‌های جریان جرم کل مختلف نشان می‌دهند. فیلم کربن نرخ رشد را افزایش داد. مطالعات اشعه ایکس نشان می دهد که لایه های کربن عمدتاً در ساختار الماس و گرافیت رسوب می کنند. پیک های مختلف اشعه ایکس مربوط به پیکربندی الکترونیکی اتم های گرافیت و الماس است که سطح بالاترین لایه را در یک فیلم کربن تشکیل می دهند. فیلم‌های کربنی که در نرخ‌های جریان جرمی مختلف رسوب می‌شوند، علم و مهندسی جدیدی را نشان می‌دهند. منشا کاربرد در فیلم‌های کربن رسوب‌شده نیز بررسی شده است. با توجه به عدم قطعیت در مطالعات قبلی، کار حاضر به شدت پیشنهاد می کند که بررسی مجدد رسوب و خصوصیات فیلم های کربنی باشد. نتایج حاصل از دستگاه اشعه ایکس و میکروسکوپ روبشی نشر میدانی با یکدیگر مطابقت دارند.